Nanotechnologia

Elektronolitografia i obrazowanie mikroskopem elektronowym za pomocą jednego urządzenia

Firma Raith przedstawiła  ostatnio nowy system “PIONEER Two”, profesjonalny system łączący w jednym urządzeniu system do elektronolitografii i mikroskop elektronowy (SEM). To urządzenie zostało opracowane specjalnie dla naukowców do ich badań. Oparty na technologii termicznej emisji polowej (TFE) “PIONEER Two” umożliwia nanolitografię i obrazowanie/ analizę o bardzo wysokiej rozdzielczości.

Dzięki kompaktowej konstrukcji  przy bardzo niskich kosztach eksploatacji, jest to idealny system dla wszystkich instytucji akademickich poszukujących bezkompromisowych, niedrogich rozwiązań zarówno do nanowytwarzania jak i inspekcji nanostruktur.  W porównaniu z najnowoczesniejszym mikroskopem SEM z generatorem wzorów, oferuje lepsze gwarantowane parametry litografii.
Najnowsza technologia optyki elektronowej zapewnia najmniejszy rozmiar wiązki (<1,6 nm) na świecie w profesjonalnym systemie EBL. Pozwala to nie tylko na gwarantowaną bezpośrednią sub-8 nm nanolitografię, ale także obrazowanie i analizę SEM w ultra-wysokiej rozdzielczości rzędu 1 nm. Jest dostępnych 5 różnych (opcjonalnie) detektorów, które są odpowiednie do zastosowań w materiałoznawstwie i naukach przyrodniczych.
System zawiera 2”, o wysokiej precyzji stolik kontrolowany interferometrem laserowym do litografii dużej powierzchni i akwizycji obrazu. Unikalną opcjonalną funkcją tego stolika jest w pełni zintegrowany moduł do ciągłego obrotu (360 °) i nachylenia (0-90 °) próbki umożliwiający  wygodne obrazowanie na mikroskopie elektronowym (patrz obraz 2).
Więcej informacji na temat Raith‘a, wiodącego dostawcy rozwiązań do nanowytwarzania na stronie: http://www.raith.com/

Dodatkowe informacje na temat systemu PIONEER Two są dostępne na stronie internetowej Raith’a i również bezpośrednio z lokalnego biura kontaktowego Raith’a: Katarzyna Piekarska, Arniki 22, 04-903 Warszawa, Polska, +4822 872 10 77, kasiapiekarska@home.pl.

Pochylany i obracany uchwyt próbki umiejscowiony w interferometrze laserowym

Podobne artykuły

Siatki mają wiele zastosowań w technice optycznej i fotonice. Zwykłe siatki mogą być wytwarzane przy użyciu litografii interferencyjnej. Specjalne siatki z przesunięciem fazowym lub chirp są raczej wykonywane za pomocą narzędzi litograficznych Raith...
Naukowcom z Oak Ridge National Laboratory (ORNL) udało się stworzyć nanowzory na powierzchni polimerów, dzięki mikroskopii sił atomowych (Atomic Force Microscopy – AFM). Wzory zostały wyryte na podłożu wykonanym z nowej klasy polimerów...