litography

Raith umożliwia wykonanie siatki z odstępami o dokładności poniżej 0,1 nm przy zastosowaniu trybu wytwarzania wzoru MBMS

Siatki mają wiele zastosowań w technice optycznej i fotonice. Zwykłe siatki mogą być wytwarzane przy użyciu litografii interferencyjnej. Specjalne siatki z przesunięciem fazowym lub chirp są raczej wykonywane za pomocą narzędzi litograficznych Raith z wiązką elektronową. Lasery DFB do telekomunikacji optycznej są interesującym przykładem zastosowania specjalnego trybu wytwarzania wzoru: Modulated Beam Moving Stage (“MBMS”- modulowana wiązka ruchoma podstawa).

więcej